首页> 外文OA文献 >Computer simulation of the sheath and the adjacent plasma in the presence of a plasma source

【2h】

Computer simulation of the sheath and the adjacent plasma in the presence of a plasma source

机译：在存在等离子体源的情况下对鞘管和相邻等离子体的计算机模拟

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Shustin E; Tarakanov V; Ronald K;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2017
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Particle-in-cell (PIC) simulations on plasma-sheath boundary in collision-free plasmas with warm-ion sources [J] . Janez Krek, Nikola Jeli(c), Jo(z)e Duhovnik Nuclear Engineering and Design . 2011,第4期

机译：具有热离子源的无碰撞等离子体中等离子体鞘边界的粒子模拟（PIC）
2. Self-Consistent 2-D Kinetic Simulations of High-Voltage Plasma Sheaths Surrounding Ion-Attracting Conductive Cylinders in Flowing Plasmas [J] . ric Choiniere, Brian E. Gilchrist IEEE Transactions on Plasma Science . 2007,第期

机译：高压等离子体鞘围绕流动等离子体中吸引离子的导电圆筒的自洽二维动力学模拟
3. Sheath parameters for non-Debye plasmas: Simulations and arc damage [J] . I. V. Morozov, G. E. Norman, Z. Insepov, Physical Review. Accelerators and Beams . 2012,第5期

机译：非德拜等离子体的鞘层参数：模拟和电弧破坏
4. Fluid Computer Simulations in Plasma Physics: Electrical Charging of Micron-sized Particulates in Plasma Sheath [C] . P. Bartos, M. Svarc, J. Harvalik, International conference on phenomena in ionized gases;ICPIG 2009 . 2009

机译：等离子体物理学中的流体计算机模拟：等离子体鞘中微米级微粒的带电
5. Plasma sheath behavior in a total nonambipolar radio frequency generated plasma electron source. [D] . Longmier, Benjamin Wesley. 2007

机译：等离子体鞘层在总的非双极射频产生的等离子体电子源中的行为。
6. A computer-controlled data acquisition and analysis system for use in thecharacterization of plasma atomic emission sources [O] . James P. Shields, Edward H. Piepmeier 1991

机译：一种计算机控制的数据采集和分析系统用于等离子体原子发射源的表征
7. Computer simulation of the sheath and the adjacent plasma in the presence of a plasma source [O] . Shustin E.G., Tarakanov V.P., Ronald K. 2017

机译：在存在等离子体源的情况下对鞘管和相邻等离子体的计算机模拟

Computer simulation of the sheath and the adjacent plasma in the presence of a plasma source

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅